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本文標(biāo)題:表面微機械制造基礎(chǔ)-體微機械加工技術(shù)

信息分類:行業(yè)動態(tài) 新聞來源:未知 發(fā)布時間:2017-9-29 14:19:51
表面微機械制造基礎(chǔ)-體微機械加工技術(shù)

表面微機械制造基礎(chǔ)
  為了制作MEMS器件,體微機械加工通常采用濕法蝕刻劑,刻蝕掉大
量的硅,而表面微機械加工,之所以這么稱呼它,主要是為了克服體微
機械加工的一些不足。首先,由于采用各向異性刻蝕,蝕出的凹腔存在
傾斜的坡度,體微機械壓力傳感器所需的表面面積是遠(yuǎn)大于實際隔膜面
積的,這就意味著每片圓片的產(chǎn)量,與用隔膜面積作為特征上限時所能
得到的產(chǎn)量相比,要減少許多;其次,采用表面微機械加工,可用若干
淀積層來制作結(jié)構(gòu),以后可以“釋放”部件,允許它們在橫向移動,就
如同縱向一樣,這使得MEMS執(zhí)行器(帶移動部件的MEMS器什)成為可能;
第二,最常用的表面微機械結(jié)構(gòu)材料,多晶硅,由于在IC工藝中的應(yīng)用
,性能已經(jīng)很穩(wěn)定,并且通過仔細(xì)地控制淀積工藝,淀積薄膜中的應(yīng)力
水平可以控制得很好,而且可重復(fù),多晶還是各向同性的,對于一些結(jié)
構(gòu)來說,這是一個優(yōu)點:最后,體微機械加工很難與IC工藝集成,而表
面微機械加工則很容易,它允許信號處理電路和MEMS器件同處一個芯片

  表面微機械加工中有兩項關(guān)鍵工藝,第一項是淀積低應(yīng)力薄膜用于
制作結(jié)構(gòu)單元,第二項是使用犧牲層,使結(jié)構(gòu)層能與襯底脫開,從而允
許結(jié)構(gòu)層動作。應(yīng)力受控薄膜的淀積是表面微機械加工的精華,LPCVD
淀積的多晶硅是到目前為止用得最多的MEMS結(jié)構(gòu)材料。

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